Leading the way to next generation reticle technology

半導體產業的製程技術，從0.18um演進至45nm，中華凸版提供的光罩解決方案，協助客戶去因應這新技術的挑戰。現在，當客戶更往先進技術邁進之時，中華凸版也在深次微米的世代，提供必需的知識、資源、產品及解決方案。

中華凸版為亞洲的光罩供應商中，持續投入先進開發製程的廠商。中華凸版及母公司-凸版印刷不斷投資電子束描繪機台，擁有先進的JBX3030及EBM6000的電子束描繪機台，對中華凸版在65/45nm光罩量產及28nm以下的光罩研發助益極大。

除此之外，中華凸版積極地應用相位移光罩(Strong Phase-shift Mask；Strong PSM)技術，來生產高階光罩。這個技術可用來縮小線寬(Critical Dimension)，並給客戶更大的Process Window。中華凸版在Strong PSM上的專業，讓客戶在深次微米的微影技術上更有效率。